Purdue universiteto (JAV) mokslininkai neseniai pateikė pasauliui naują aušinimo sąsają, skirtą ateities mikroschemoms apsaugoti nuo perkaitimo. Mokslininkai nusprendė atsisakyti tradicinio sprendimo, pagrįsto tepalų, turinčių smulkių metalo dalelių, naudojimu. Vietoje to, jie pasiūlė išauginti aušinimo elementus tiesiog ant mikroschemos paviršiaus. Taikant šį metodą, lusto paviršius pasidengia ištisu anglies nanovamzdelių mišku, kurie ir yra naujos aušinimo sistemos pagrindas.
Tam, kad būtų išaugintas „nanomiškas“, puslaidininkio paviršiuje buvo naudojamas specialus išsišakojusių molekulių, kurios vadinamos dendrimeriais (angl. „dendrimers“) šablonas. Vėliau tarp dendrimerių šakų buvo patalpinami 10nm skersmens anglies nanovamzdelių augimo katalizatoriai – dalelės, pagamintos iš laidininkų: geležies, nikelio, kobalto arba paladžio. Paveikti katalizatoriais, puslaidininkiai buvo patalpinti į specialią kamerą su metano atmosfera, kur ir vyksta anglies nanovamzdelių, kurių skersmuo yra apie 10 nm, augimas.
Pasak mokslininkų, į kilimą panašus anglies nanovamzdelių sluoksnis, savo efektyvumu lenkia šiuo metu aušinimui naudojamas medžiagas, tokias kaip riebalai, vaškas, folija ir pan. Dar vienas naujos technologijos pranašumas yra tas, kad gamybos procesui nereikia „švaraus kambario“, t.y., nereikia sudaryti sterilių sąlygų, o tai padės greičiau įdiegti naują technologiją masinėje gamyboje.
